Sistema di pulizia, disincrostazione elettrolitica e OHT a wafer Semiconduct in camera bianca Fab. Progettazione generica. Immagine di rendering 3D.

RFID:2X6NBFA

Anteprima

Detagli dell'immagine

Collaboratore:

Haiyin Wang / Alamy Foto Stock

ID dell’immagine:

2X6NBFA

Dimensioni dei file:

107,1 MB (1,4 MB Download compresso)

Liberatorie:

Modello - no | Proprietà - noMi occorre una liberatoria?

Dimensioni:

7200 x 5200 px | 61 x 44 cm | 24 x 17,3 inches | 300dpi

Data acquisizione:

7 maggio 2024

Parole chiave associate all'immagine

Immagini Simili

RF2X6NA56–Pulizia di wafer Semiconduct, sistema di disincrostazione elettrolitica e OHT, AGV in camera bianca Fab. Progettazione generica. Immagine di rendering 3D.

RF2X6NAG8–Pulizia di wafer Semiconduct, sistema di disincrostazione elettrolitica e OHT, AGV in camera bianca Fab. Progettazione generica. Immagine di rendering 3D.

RF2X6NBHW–Rendering in argilla del sistema Semiconduct Wafer Cleaning, Etching e OHT in camera bianca Fab. Immagine di rendering 3D.

RF2X6NA70–Rendering in argilla di Semiconduct Wafer Cleaning, Etching system e OHT, AGV in Fab cleanroom. Progettazione generica. Immagine di rendering 3D.

RF2X6NAP3–Rendering in argilla di Semiconduct Wafer Cleaning, Etching system e OHT, AGV in Fab cleanroom. Progettazione generica. Immagine di rendering 3D.

Sistema di pulizia, disincrostazione elettrolitica e OHT a wafer Semiconduct in camera bianca Fab. Progettazione generica. Immagine di rendering 3D.

Detagli dell'immagine

Parole chiave associate all'immagine

Ottieni fantastiche funzionalità con il tuo account gratuito

Ispirati per il tuo prossimo progetto!